日本のガス工場で火災、1人死亡～半導体供給網に影響か

シリコンウェハー洗浄に使われる「三フッ化窒素（NF₃）」を製造する工場で火災が発生

日本の産業用ガスメーカー、群馬県渋川市にある関東電化工業株式会社が所有する三フッ化窒素（NF₃）工場で火災が発生し、1人の作業員が死亡、もう1人が負傷して病院に搬送されました。火災の原因は現在調査中です。

台湾の報道機関Commercial Timesによると、爆発の影響で工場の2つある生産ラインのうち1つが部分的に損傷を受け、工場には操業停止が命じられました。

NF₃は有毒ガスで、主に半導体製造においてシリコンウェハーの洗浄やエッチングに使用されます。関東電化は世界最大級のNF₃製造業者であり、Micron、Rapidus、TSMC、Samsung Electronics、Sony、Kioxiaなどに供給しています。

報道によれば、損傷した生産ラインの修復と出荷再開には数か月かかる可能性があり、世界的な半導体供給網への影響が懸念されています。

日本政府は混乱を最小限に抑えるため、韓国からの輸入拡大を検討しており、影響を受けた半導体メーカーも代替供給元の確保を模索しています。

DCDは亡くなられた作業員のご家族、友人、同僚の皆様に心よりお悔やみを申し上げます。

この記事は海外Data Centre Dynamics発の記事をData Center Cafeが日本向けに抄訳したものです。