サムスン電子、EUV-5nmチップ製造ラインを開発

来年には工場はフル稼働する

サムスン電子は、韓国の平沢に新しいEUV 5nmチップの製造ラインを建設し、来年までにそれらの生産を開始する予定です。

Extreme Ultravioletベースの5ナノメートル（EUV-5nm）は、半導体チップのマイクロアーキテクチャ製造の新しいプロセスです。

より細かいパターン

半導体の形状が小さくなるにつれて、EUVリソグラフィテクノロジーの採用により、ウェーハ上の複雑なパターンのスケールダウンが可能になり、5GやAIアプリケーションでより良い結果を得られるようになります。

この5nmプロセスはサムスンの半導体チップラインにおける新バージョンであり、その生産は2021年後半に本格化すると予想されています。

サムスン電子の Foundry Businessプレジデント兼責任者のES Jung博士は、次のように述べています。「この新しい製造施設は、サブ5nmプロセスのサムスンの製造能力を拡大し、EUVベース・ソリューションへの高まる需要に迅速に対応できるようになる。」

EUVチップの製造ラインは、SamsungによってV1としてコード化されています。 現在、同社は韓国の華城（ファソン）で7nmチップ用のV1ラインを運用しています。 ただし、来年このラインは平沢と共に5nmチップの製造に加わる予定です。 サムスンは、最終的にこれらのラインで3nmプロセスの開発を目指しています。

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