日本とオランダ、米国の対中半導体製造装置輸出規制に合意

フォトリソグラフィ装置メーカーのASML、ニコン、キヤノンに影響

オランダと日本の両代表は、中国へのハイテク半導体製造装置の輸出を広範に規制することで米国と合意しました。

この輸出規制は、先週秘密裏に交渉が行われましたが、Bloomberg、Financial Times、およびThe New York Timesの報道によると、今回の規制は、米国がすでに2022年10月に米国企業に向けて発表したものと同様のものであるとのことです。

なお、日本とオランダは、法的な取り決めの確定にまだ数カ月かかる可能性があり、公表はしない見通しです。

この規制は、半導体の開発に欠かせない装置であるフォトリソグラフィー市場に主に影響を与えることになります。

オランダのASMLは、最先端半導体チップ製造に使われる極端紫外線露光（EUV）装置の世界唯一のサプライヤーですが、これらはすでに中国への輸出が規制されています。

ASMLは、それほど先進的でない深紫外線（DUV）露光機も製造しており、その売上全体の15％は、DUV機を中国に出荷したことによるものです。

ASMLの主な競合会社は日本のニコンとキヤノンであり、この2社も輸出規制の影響を受けることになります。

この記事は海外Data Centre Dynamics発の記事をData Center Cafeが日本向けに抄訳したものです。